11月9日消息，据外媒报道称，佳能CEO Fujio Mitarai透露，公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，但不会卖给中国厂商。
由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，引起了中国厂商的兴趣，但可能无法实现。
今年7月，日本扩大了对芯片制造出口的限制，但没有明确提到纳米压印光刻技术。
Mitarai称，佳能可能无法将这些机器运往中国。我的理解是，14nm技术以外的任何产品都是禁止出口的。
据悉，纳米压印技术采用与传统投影曝光技术不同的方法形成电路图案，该设备不仅功耗更低、更环保，而且成本远低于现阶段ASML的EUV光刻机。
Mitarai重申:“我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求，我们已经收到了很多客户的咨询。”
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